| 发明名称 | 基板处理装置及基板处理方法 | ||
| 摘要 | 根据本发明的一实施例，基板处理装置包括：下部腔，上部开放；上部腔，开闭上述下部腔的上部，与上述下部腔共同形成对基板实施工序的内部空间；喷头，设置在上述上部腔的下部并朝向上述内部空间供给反应气体，在与上述上部腔之间形成缓冲空间；划分部件，设置在上述缓冲空间内而将上述缓冲空间划分为多个扩散区域；及多个气体供给口，形成在上述上部腔而朝向各上述扩散区域供给上述反应气体。 | ||
| 申请公布号 | CN105849864A | 申请公布日期 | 2016.08.10 |
| 申请号 | CN201480070510.4 | 申请日期 | 2014.12.10 |
| 申请人 | 株式会社EUGENE科技 | 发明人 | 诸成泰;张吉淳;尹畅焄;金劲勋 |
| 分类号 | H01L21/205(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/205(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京纽盟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11456 | 代理人 | 许玉顺 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，其特征在于，包括：下部腔，上部开放；上部腔，开闭上述下部腔的上部，与上述下部腔共同形成对基板实施工序的内部空间；喷头，设置在上述上部腔的下部并朝向上述内部空间供给反应气体，在与上述上部腔之间形成缓冲空间；划分部件，设置在上述缓冲空间内而将上述缓冲空间划分为多个扩散区域；及多个气体供给口，形成在上述上部腔而朝向各上述扩散区域供给上述反应气体。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道龙仁市处仁区阳智面秋溪路42 | ||