发明名称 |
一种分等级结构碳插层MoS<sub>2</sub>@rGO的制备方法 |
摘要 |
本发明属于纳米材料的制备领域,具体涉及一种分等级结构碳插层MoS<sub>2</sub>@rGO的制备方法。将hummers方法改进的氧化石墨烯和Mo<sub>3</sub>O<sub>10</sub>(C<sub>2</sub>H<sub>10</sub>N<sub>2</sub>)分散于去离子水中,超声0.5 h后,加入L‑半胱氨酸和葡萄糖,经水热反应后,再经离心、洗涤、干燥,将得到的产物在惰性气氛下煅烧即得碳插层的MoS<sub>2</sub>纳米片垂直生长在石墨烯表面的复合物。该制备方法简单,重复性好、有利于大规模生产,具有潜在的应用价值。 |
申请公布号 |
CN105836804A |
申请公布日期 |
2016.08.10 |
申请号 |
CN201610212081.0 |
申请日期 |
2016.04.07 |
申请人 |
福州大学 |
发明人 |
李亚峰;魏明灯;车宗洲;陈凯翔 |
分类号 |
C01G39/06(2006.01)I;C01B31/04(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I |
主分类号 |
C01G39/06(2006.01)I |
代理机构 |
福州元创专利商标代理有限公司 35100 |
代理人 |
蔡学俊 |
主权项 |
一种分等级结构碳插层MoS<sub>2</sub>@rGO的制备方法,其特征在于:将hummers方法改进的氧化石墨烯和Mo<sub>3</sub>O<sub>10</sub>(C<sub>2</sub>H<sub>10</sub>N<sub>2</sub>)分散于去离子水中,超声0.5 h后,加入L‑半胱氨酸和葡萄糖,经水热反应后,再经离心、洗涤、干燥,将得到的产物在惰性气氛下煅烧即得。 |
地址 |
350108 福建省福州市闽侯县上街镇大学城学园路2号福州大学新区 |