发明名称 一种分等级结构碳插层MoS<sub>2</sub>@rGO的制备方法
摘要 本发明属于纳米材料的制备领域,具体涉及一种分等级结构碳插层MoS<sub>2</sub>@rGO的制备方法。将hummers方法改进的氧化石墨烯和Mo<sub>3</sub>O<sub>10</sub>(C<sub>2</sub>H<sub>10</sub>N<sub>2</sub>)分散于去离子水中,超声0.5 h后,加入L‑半胱氨酸和葡萄糖,经水热反应后,再经离心、洗涤、干燥,将得到的产物在惰性气氛下煅烧即得碳插层的MoS<sub>2</sub>纳米片垂直生长在石墨烯表面的复合物。该制备方法简单,重复性好、有利于大规模生产,具有潜在的应用价值。
申请公布号 CN105836804A 申请公布日期 2016.08.10
申请号 CN201610212081.0 申请日期 2016.04.07
申请人 福州大学 发明人 李亚峰;魏明灯;车宗洲;陈凯翔
分类号 C01G39/06(2006.01)I;C01B31/04(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I 主分类号 C01G39/06(2006.01)I
代理机构 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人 蔡学俊
主权项 一种分等级结构碳插层MoS<sub>2</sub>@rGO的制备方法,其特征在于:将hummers方法改进的氧化石墨烯和Mo<sub>3</sub>O<sub>10</sub>(C<sub>2</sub>H<sub>10</sub>N<sub>2</sub>)分散于去离子水中,超声0.5 h后,加入L‑半胱氨酸和葡萄糖,经水热反应后,再经离心、洗涤、干燥,将得到的产物在惰性气氛下煅烧即得。
地址 350108 福建省福州市闽侯县上街镇大学城学园路2号福州大学新区