发明名称 |
多层组件以及控制层厚度的方法 |
摘要 |
描述了用于涂覆基底的预制组件和方法。该预制组件包括在堆叠体中的至少两个层,每个层包括至少一种原料。每个层中的原料可以是电介质材料。一种类型的堆叠体具有一个外层作为暴露层。一种类型的堆叠体的每个层具有暴露部分,并且所有层的一部分是暴露的。在使用中,预制组件中的堆叠体被定位在真空腔室系统中并且能量被顺序地递送到该暴露层,从而移除每个暴露层的至少一部分。每个层成为暴露层并且以顺序的方式沉积在基底上。该预组装的原料堆叠体用于制造多层涂层,例如用于光学或眼科物品的多层涂层。 |
申请公布号 |
CN105849308A |
申请公布日期 |
2016.08.10 |
申请号 |
CN201480071453.1 |
申请日期 |
2014.12.24 |
申请人 |
埃西勒国际通用光学公司 |
发明人 |
M·麦尔德布拉斯;D·桑希尔 |
分类号 |
C23C14/24(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/24(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
牛南辉;魏子翔 |
主权项 |
一种使用多层涂层来涂覆至少一个基底的方法,该方法包括:提供具有至少两个层的预组装的原料堆叠体,其中每个层包含至少一种原料,其中该预组装的原料堆叠体包括一个外层;将能量递送到该预组装的原料堆叠体;并且从该预组装的原料堆叠体中顺序地移除该至少两个层中的每一个的至少一部分,其中顺序地移除是将该至少两个层中的每一个的至少一部分提供到该至少一个基底上。 |
地址 |
法国沙朗通勒蓬 |