发明名称 一种硅掺杂多孔纳米氧化钛涂层及其制备方法
摘要 本发明涉及一种硅掺杂多孔纳米氧化钛涂层及其制备方法,属于医用生物陶瓷涂层和纳米材料技术领域。本发明的涂层呈多孔纳米结晶结构,与基体结合紧密,涂层物相主要由纯锐钛矿或锐钛矿/金红石复合相组成,涂层中硅元素的含量在0.01~25wt%范围内可控。本发明采用微弧氧化技术,在特定的电解液中,直接在钛或钛合金表面一步法原位生成硅掺杂多孔纳米氧化钛涂层,可用作人工骨、人工关节和牙种植体等部位。
申请公布号 CN102049064B 申请公布日期 2016.08.03
申请号 CN200910198403.0 申请日期 2009.11.06
申请人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明人 胡红杰;刘宣勇;丁传贤
分类号 A61L27/30(2006.01)I;A61L27/06(2006.01)I;A61L27/56(2006.01)I;C25D11/26(2006.01)I 主分类号 A61L27/30(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种硅掺杂多孔纳米氧化钛涂层的制备方法,涂层呈多孔纳米结晶结构,与基体结合紧密,涂层物相主要由纯锐钛矿或锐钛矿/金红石复合相组成,涂层中硅元素的含量在0.01~25wt%,其特征在于:采用微弧氧化技术,在特定的电解液中,直接在钛或钛合金表面一步法原位生成硅掺杂多孔纳米氧化钛涂层,包括下述步骤:(1)提供一种包含有硅元素的电解液,并辅以至少一种辅助起弧的电解质;(2)在上述特定电解液中,以钛或钛合金为阳极,不锈钢为阴极,采用直流脉冲电源对钛或钛合金进行微弧氧化处理;(3)电流密度0.1~5A/cm<sup>2</sup>、电压300~600V、频率500~2000Hz、占空比10~80%;(4)微弧氧化时间为1~60min;(5)制备过程电解液温度不超过60℃,其中,所述电解液中硅元素含量范围为0.01~0.5mol/L。
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