| 发明名称 | 光刻设备和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 描述一种用于控制多体系统的同步定位的控制装置，控制装置包括：输入，用于接收表示多体系统的第一主体(MT)的期望位置与第一主体的测量位置之间的差异的第一误差信号(e<sub>rs</sub>)和表示多体系统的第二主体(WT)的期望位置与第二主体的测量位置之间的差异的第二误差信号(e<sub>ws</sub>)；控制装置被配置成：基于第一误差信号(e<sub>rs</sub>)来确定用于驱动被配置成驱动第一主体的定位装置的第一初级驱动信号(F<sub>r1</sub>)；基于第二误差信号(e<sub>ws</sub>)来确定用于驱动被配置成驱动第二主体的定位装置的第二初级驱动信号(F<sub>w1</sub>)；确定用于驱动被配置成驱动第一主体的定位装置的第一次级驱动信号(F<sub>r2</sub>)，第一次级驱动信号基于第二误差信号(e<sub>ws</sub>)；确定用于驱动被配置成驱动第二主体的定位装置的第二次级驱动信号(F<sub>w2</sub>)，第二次级驱动信号基于第一误差信号(e<sub>rs</sub>)；和将第一初级驱动信号(F<sub>r1</sub>)和第一次级驱动信号(F<sub>r2</sub>)组合以获得第一组合驱动信号(F<sub>rc</sub>)并且将第二初级驱动信号(F<sub>w1</sub>)和第二次级驱动信号(F<sub>w2</sub>)组合以获得第二组合驱动信号(Fwc)；控制装置进一步包括用于将第一组合驱动信号(F<sub>rc</sub>)和第二组合驱动信号(F<sub>wc</sub>)输出至相应的定位装置的输出。 | ||
| 申请公布号 | CN105829969A | 申请公布日期 | 2016.08.03 |
| 申请号 | CN201480069190.0 | 申请日期 | 2014.11.21 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | H·巴特勒;M·J·E·G·布鲁克斯;M·F·赫蒂杰斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 王茂华;吕世磊 |
| 主权项 | 一种用于控制多体系统的同步定位的控制装置，所述控制装置包括：输入，用于接收表示所述多体系统的第一主体的期望位置与所述第一主体的测量位置之间的差异的第一误差信号和表示所述多体系统的第二主体的期望位置与所述第二主体的测量位置之间的差异的第二误差信号；所述控制装置被配置成：‑基于所述第一误差信号来确定用于驱动被配置成驱动所述第一主体的定位装置的第一初级驱动信号；‑基于所述第二误差信号来确定用于驱动被配置成驱动所述第二主体的定位装置的第二初级驱动信号；‑确定用于驱动被配置成驱动所述第一主体的所述定位装置的第一次级驱动信号，所述第一次级驱动信号基于所述第二误差信号；和‑确定用于驱动被配置成驱动所述第二主体的所述定位装置的第二次级驱动信号，所述第二次级驱动信号基于所述第一误差信号，‑将所述第一初级驱动信号和所述第一次级驱动信号组合以获得第一组合驱动信号并且将所述第二初级驱动信号和所述第二次级驱动信号组合以获得第二组合驱动信号；所述控制装置进一步包括用于将所述第一组合驱动信号和所述第二组合驱动信号输出至相应的所述定位装置的输出。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||