发明名称 光学元件及其制造方法
摘要 本发明提供了光学元件及其制造方法,该光学元件包括:具有凹凸表面的第一光学层;在第一光学层的凹凸表面上设置的波长选择反射层;在设有波长选择反射层的凹凸表面上设置第二光学层,以填充凹凸表面,并且在上述光学元件中,波长选择反射层包括金属层、设置在金属层上并含有金属氧化物作为主要成分的保护层、以及设置在该保护层上并含有除锌氧化物之外的金属氧化物作为主要成分的高折射率层,并且波长选择反射层选择性地定向反射特定波长带中的光,而透射该特定波长带之外的光。
申请公布号 CN102141641B 申请公布日期 2016.08.03
申请号 CN201110024525.5 申请日期 2011.01.21
申请人 迪睿合电子材料有限公司 发明人 竹中博也;长浜勉;榎本正
分类号 G02B5/124(2006.01)I;G02B27/10(2006.01)I;G02B27/14(2006.01)I 主分类号 G02B5/124(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 李浩
主权项 一种光学元件,包括:第一光学层,具有凹凸表面;波长选择反射层,设置在所述第一光学层的凹凸表面上;以及第二光学层,设置在设有所述波长选择反射层的凹凸表面上,以填充所述凹凸表面,其中,所述波长选择反射层包括:金属层,保护层,设置在所述金属层上并含有金属氧化物作为主要成分的,以及高折射率层,设置在所述保护层上并含有除锌氧化物之外的金属氧化物作为主要成分,以及所述波长选择反射层选择性地定向反射特定波长带中的光,而透射所述特定波长带之外的光,其中所述保护层含有至少包含锌氧化物的金属氧化物作为主要成分,并且所述保护层具有在3 nm至30 nm范围内的厚度,并且,所述波长选择反射层至少包括彼此层压的两个重复单元,每个所述重复单元均含有所述金属层、所述保护层以及所述高折射率层。
地址 日本东京都