发明名称 X射线产生装置、静态CT成像装置及X射线产生方法
摘要 本发明公开了一种X射线产生装置、静态CT成像装置及X射线产生方法,包括基极、栅极、聚焦极和X射线阳极靶,还包括至少一入射光源,照射所述基极中的基底部分,其中所述基底上设置有具有光敏电阻效应的涂层;第一光源调节装置,用于控制所述入射光源照射在所述基底上的位置或移动。本发明提供的X射线产生装置通过控制光信号对电子源发射面积大小、空间位置、以及移动进行自由调控,并由此实现对于相应聚焦点大小、球管电流大小、以及X射线束产生位置的控制;包括该X射线产生装置的静态CT成像装置,可以通过相应的光信号扫描控制代替现有静态CT装置中基于传统电路单独控制和驱动多个X射线源的方法,从而大大减低了系统设计的复杂程度,降低了系统装置的造价。
申请公布号 CN103426704B 申请公布日期 2016.08.03
申请号 CN201210167627.7 申请日期 2012.05.25
申请人 上海联影医疗科技有限公司 发明人 章健;李冬松
分类号 H01J35/02(2006.01)I;H01J35/06(2006.01)I;G03B42/02(2006.01)I 主分类号 H01J35/02(2006.01)I
代理机构 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人 金碎平
主权项 一种X射线产生装置,包括基极、栅极、聚焦极和X射线阳极靶,其特征在于,还包括:至少一入射光源,照射所述基极中的基底部分,其中所述基底上设置有具有光敏电阻效应的涂层;第一光源调节装置,用于控制所述入射光源照射在所述基底上的位置和移动;所述基极还包括生长在基底上的场发射电子源,所述场发射电子源与所述基底相连;所述入射光源为多光源,所述第一光源调节装置是通过改变多光源中的有效发光部位以及发光速率,从而改变相应场发射电子发射区的空间位置,进而控制X射线阳极靶上聚焦点的位置和移动速度;所述入射光源还包括对应于每个单光源的控制开关。
地址 201821 上海市嘉定区嘉定工业区普惠路333号3幢1098室