发明名称 镜头阴影校正系数确定方法、镜头阴影校正方法及装置
摘要 本发明公开了一种镜头阴影校正系数确定方法、镜头阴影校正方法及装置,所述镜头阴影校正系数确定方法包括以下步骤:获取灰度图像上每个像素点的参考校正系数;生成二维校正曲面;第一次曲线拟合;第二次曲线拟合;计算出每个像素点坐标对应的镜头阴影校正系数。本发明还公开了一种镜头阴影校正系数确定装置。所述镜头阴影校正方法包括以下步骤:获取待校正图像;获取镜头阴影校正系数;用像素值乘以镜头阴影校正系数,得到校正后图像。本发明还公开了一种镜头阴影校正装置。本发明提供的镜头阴影校正系数确定方法、镜头阴影校正方法及装置适合用于对各种类型镜头拍摄的图像进行镜头阴影校正,校正效果较好,且实现方法简单,硬件实现面积小。
申请公布号 CN103377474B 申请公布日期 2016.08.03
申请号 CN201210127945.0 申请日期 2012.04.27
申请人 比亚迪股份有限公司 发明人 王毫杰;申冬;彭茂;胡文阁
分类号 G06T7/00(2006.01)I;H04N9/04(2006.01)I 主分类号 G06T7/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项  一种镜头阴影校正系数确定方法,其特征在于,包括:获取灰度图像上每个像素点的参考校正系数,具体为:用镜头拍摄一幅亮度分布均匀的灰度图像后得到拍摄图像的各像素点的真实像素值,选择所述灰度图像中最亮点为标准值,并计算该标准值与拍摄图像的各像素点的真实像素值的比值,得到每个像素点的参考校正系数;由所获取的参考校正系数生成像素点坐标平面上的二维校正曲面;第一次曲线拟合:对二维校正曲面上的每一行进行一元高次幂多项式拟合,得到所述参考校正系数的一元高次幂多项式,具体为:设置以像素点纵坐标为变量的一元高次幂多项式,确定纵坐标的拟合系数,得到参考校正系数的一元高次幂多项式;第二次曲线拟合:对第一次曲线拟合所获得的一元高次幂多项式的相同高次幂的拟合系数再次进行一元高次幂多项式拟合,得到相同高次幂的拟合系数的一元高次幂多项式,具体为:设置以像素点横坐标为变量的一元高次幂多项式,确定横坐标的拟合系数,得到相同高次幂的拟合系数的一元高次幂多项式;根据所述参考校正系数的一元高次幂多项式和相同高次幂的拟合系数的一元高次幂多项式计算出每个像素点坐标对应的镜头阴影校正系数,具体为:根据每个像素点的横坐标计算出每行的高次幂的拟合系数,然后根据高次幂的拟合系数以及每个像素点纵坐标计算出与每个像素点坐标对应的镜头阴影校正系数。
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