发明名称 基板处理方法以及基板处理系统
摘要 本发明提供能够在防止处理液的利用效率的下降的同时,高效地进行基板的处理的基板处理方法以及基板处理系统。本发明的基板处理方法是在基板处理机构10中使用处理液对基板进行处理的基板处理方法,其具有:前段步骤,其中,生成含有有助于基板处理的活性化的活性种的活性种含有溶液;第1步骤(S21~S23),其中,将该前段步骤中生成的所述活性种含有溶液和对所述基板进行处理的处理液进行混合从而生成活性种含有处理液;第2步骤(S29),将该第1步骤中生成的所述活性种含有处理液作为所述处理液供给至所述基板处理机构;所述基板处理机构中,为通过所述活性种含有处理液和所述基板的反应一边生成活性种一边对该基板进行处理的构成。
申请公布号 CN103165411B 申请公布日期 2016.08.03
申请号 CN201210544384.4 申请日期 2012.12.14
申请人 芝浦机械电子装置股份有限公司 发明人 林航之介;松井绘美;中野晴香
分类号 H01L21/02(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I 主分类号 H01L21/02(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 丁香兰;庞东成
主权项 一种基板处理方法,其是在基板处理机构中使用处理液对基板进行处理的基板处理方法,该基板处理方法具有:前段步骤,其中,生成含有有助于基板处理的活性化的活性种的活性种含有溶液;第1步骤,其中,将该前段步骤中生成的所述活性种含有溶液和对所述基板进行处理的处理液进行混合从而生成活性种含有处理液;和第2步骤,其中,将该第1步骤中生成的所述活性种含有处理液作为所述处理液供给至所述基板处理机构;在所述基板处理机构中,通过所述活性种含有处理液和所述基板的反应一边生成活性种一边对该基板进行处理,所述前段步骤具有下述步骤:在所述基板处理机构中对与所述基板同种类的预定基板供给所述处理液,通过该处理液和所述预定基板的反应一边生成活性种一边对该预定基板进行处理的步骤;对该步骤处理后得到的活性种含有处理液进行回收的步骤;和将回收的所述活性种含有处理液作为活性种含有溶液预先储存于存液机构的步骤,将预先储存于该存液机构的所述活性种含有溶液用于所述第1步骤。
地址 日本神奈川县