发明名称 | 一种多孔二氧化硅减反射膜及其制备方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种多孔二氧化硅减反射膜及其制备方法,该减反射膜具有内部空心孔结构,孔径大小为10-20nm。其制备方法包括以下步骤:(1)以正硅酸乙酯、去离子水、碱催化剂、无水乙醇、聚合电解质模板剂为原料制备二氧化硅空心球颗粒;(2)以该二氧化硅空心球颗粒、正硅酸乙酯、去离子水、酸催化剂、无水乙醇作为原料制备溶胶;(3)将清洗洁净的玻璃基片从该溶胶中提拉镀膜并进行退火。本发明制备的减反射膜兼具硬度大,膜层附着力好的优点。本发明制备的减反射膜兼具玻璃基底无需腐蚀前处理、制备成本低、工艺简单、耐候性好、耐刮擦等特点,符合于工业生产和应用。 | ||
申请公布号 | CN105776884A | 申请公布日期 | 2016.07.20 |
申请号 | CN201410820241.0 | 申请日期 | 2014.12.24 |
申请人 | 北京有色金属研究总院 | 发明人 | 杨海龄;郝雷;王吉宁;张子楠;刘晓鹏;蒋利军 |
分类号 | C03C17/23(2006.01)I | 主分类号 | C03C17/23(2006.01)I |
代理机构 | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人 | 刘秀青;熊国裕 |
主权项 | 一种多孔二氧化硅减反射膜的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)以正硅酸乙酯、去离子水、碱催化剂、无水乙醇、聚合电解质模板剂为原料制备二氧化硅空心球颗粒;(2)以该二氧化硅空心球颗粒、正硅酸乙酯、去离子水、酸催化剂、无水乙醇作为原料制备溶胶;(3)将清洗洁净的玻璃基片从该溶胶中提拉镀膜并进行退火。 | ||
地址 | 100088 北京市西城区新街口外大街2号 |