发明名称 一种多孔二氧化硅减反射膜及其制备方法
摘要 本发明公开了一种多孔二氧化硅减反射膜及其制备方法,该减反射膜具有内部空心孔结构,孔径大小为10-20nm。其制备方法包括以下步骤:(1)以正硅酸乙酯、去离子水、碱催化剂、无水乙醇、聚合电解质模板剂为原料制备二氧化硅空心球颗粒;(2)以该二氧化硅空心球颗粒、正硅酸乙酯、去离子水、酸催化剂、无水乙醇作为原料制备溶胶;(3)将清洗洁净的玻璃基片从该溶胶中提拉镀膜并进行退火。本发明制备的减反射膜兼具硬度大,膜层附着力好的优点。本发明制备的减反射膜兼具玻璃基底无需腐蚀前处理、制备成本低、工艺简单、耐候性好、耐刮擦等特点,符合于工业生产和应用。
申请公布号 CN105776884A 申请公布日期 2016.07.20
申请号 CN201410820241.0 申请日期 2014.12.24
申请人 北京有色金属研究总院 发明人 杨海龄;郝雷;王吉宁;张子楠;刘晓鹏;蒋利军
分类号 C03C17/23(2006.01)I 主分类号 C03C17/23(2006.01)I
代理机构 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人 刘秀青;熊国裕
主权项 一种多孔二氧化硅减反射膜的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)以正硅酸乙酯、去离子水、碱催化剂、无水乙醇、聚合电解质模板剂为原料制备二氧化硅空心球颗粒;(2)以该二氧化硅空心球颗粒、正硅酸乙酯、去离子水、酸催化剂、无水乙醇作为原料制备溶胶;(3)将清洗洁净的玻璃基片从该溶胶中提拉镀膜并进行退火。
地址 100088 北京市西城区新街口外大街2号