发明名称 |
硅光子集成方法和结构 |
摘要 |
提供了硅光子集成方法和结构。该方法包括:在光电探测器上方和周围形成至少一个包裹层;在形成所述至少一个包裹层之后,对所述光电探测器材料进行热结晶;以及在热结晶所述光电探测器材料之后,在至少一个器件的上方,在所述至少一个包裹层上形成共形的密封层。所述共形的密封层被配置为密封所述至少一个包裹层中的缝隙。所述光电探测器和所述至少一个器件位于同一衬底上。所述至少一个器件包括互补金属氧化物半导体器件或被动光子器件。 |
申请公布号 |
CN105742405A |
申请公布日期 |
2016.07.06 |
申请号 |
CN201510968938.7 |
申请日期 |
2015.12.22 |
申请人 |
国际商业机器公司 |
发明人 |
S·阿塞法;T·巴尔维奇;W·M·格林;M·H·哈提尔;J·C·罗森伯格;S·M·尚克 |
分类号 |
H01L31/18(2006.01)I;H01L31/0203(2014.01)I |
主分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
于静;张亚非 |
主权项 |
一种形成半导体结构的方法,包括:在光电探测器上方和周围形成至少一个包裹层;在形成所述至少一个包裹层之后,对所述光电探测器材料进行热结晶;以及在热结晶所述光电探测器材料之后,在至少一个器件的上方,在所述至少一个包裹层上形成共形的密封层,其中所述共形的密封层被配置为密封所述至少一个包裹层中的缝隙,所述光电探测器和所述至少一个器件位于同一衬底上;以及所述至少一个器件包括互补金属氧化物半导体器件或被动光子器件。 |
地址 |
美国纽约 |