发明名称 带框架的蒸镀掩模的制造方法、拉伸装置、有机半导体元件的制造装置及有机半导体元件的制造方法
摘要 本发明提供一种在框架固定有抑制了“扭曲”的蒸镀掩模的带框架的蒸镀掩模的制造方法及用于该方法的蒸镀掩模的拉伸装置。在带框架的蒸镀掩模的制造方法中,包含:准备将形成有狭缝(15)的金属掩模(10)和在与该狭缝重叠的位置形成有与蒸镀制作的图案对应的开口部(25)的树脂掩模(20)层叠而构成的蒸镀掩模(100)的准备工序;将在准备工序中准备的蒸镀掩模的一部分利用保持部件(80)保持,且将由保持部件(80)保持的蒸镀掩模(100)向其外方拉伸的拉伸工序;在拉伸工序后,在形成有贯通孔的框架(60)固定拉伸状态的蒸镀掩模的固定工序,在拉伸工序中,对于拉伸状态的蒸镀掩模,或拉伸蒸镀掩模的同时进行该蒸镀掩模的旋转调整及移动调整的任一方或双方的调整。
申请公布号 CN105745352A 申请公布日期 2016.07.06
申请号 CN201480063594.9 申请日期 2014.12.25
申请人 大日本印刷株式会社 发明人 小幡胜也;武田利彦;本间良幸;冈本英介
分类号 C23C14/24(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H05B33/10(2006.01)I 主分类号 C23C14/24(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 张劲松
主权项 一种带框架的蒸镀掩模的制造方法,其特征在于,包含:准备将形成有狭缝的金属掩模和在与该狭缝重叠的位置形成有与蒸镀制作的图案对应的开口部的树脂掩模层叠而构成的蒸镀掩模的准备工序;将在所述准备工序中准备的蒸镀掩模的一部分利用保持部件保持,并将由该保持部件保持的蒸镀掩模向其外方拉伸的拉伸工序;在所述拉伸工序后,在形成有贯通孔的框架上固定拉伸状态的所述蒸镀掩模的固定工序,在所述拉伸工序中,对于拉伸状态的所述蒸镀掩模,或拉伸所述蒸镀掩模的同时进行该蒸镀掩模的旋转调整及移动调整的任一方或双方的调整。
地址 日本东京都