发明名称 |
一种镀膜膜厚监测装置 |
摘要 |
本案为一种镀膜膜厚监测装置,包括:挡板,设于挡板上的通孔,第一晶振,第二晶振,其中,第一晶振与第二晶振的监测位置相同,通孔处为监测位置,第一晶振在监测位置被镀膜时,遮挡第二晶振;当第一晶振被镀膜到一定的厚度后,第一晶振被移离而第二晶振被移到监测位置,对膜厚进行连续监测。本案提供的镀膜时膜厚监测装置可精确地监控厚膜层的厚度,从而保证准确完成复杂膜系的镀膜,提高了产品的良率;同时可以实现复杂膜系厚度的准确监测,而且成本低,方法简单。 |
申请公布号 |
CN205373621U |
申请公布日期 |
2016.07.06 |
申请号 |
CN201521041410.7 |
申请日期 |
2015.12.15 |
申请人 |
苏州晶鼎鑫光电科技有限公司 |
发明人 |
周东平 |
分类号 |
G01B7/06(2006.01)I |
主分类号 |
G01B7/06(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种镀膜膜厚监测装置,其特征在于,包括:挡板(1),设于挡板上的通孔(2),第一晶振(3),第二晶振(4),其中,第一晶振与第二晶振的监测位置相同,通孔处为监测位置,第一晶振在监测位置被镀膜时,遮挡第二晶振;当第一晶振被镀膜到一定的厚度后,第一晶振被移离而第二晶振被移到监测位置,对膜厚进行连续监测。 |
地址 |
215000 江苏省苏州市工业园区娄阳路6号中新科技工业坊三期2-1-B、2-2-B |