发明名称 一种镀膜膜厚监测装置
摘要 本案为一种镀膜膜厚监测装置,包括:挡板,设于挡板上的通孔,第一晶振,第二晶振,其中,第一晶振与第二晶振的监测位置相同,通孔处为监测位置,第一晶振在监测位置被镀膜时,遮挡第二晶振;当第一晶振被镀膜到一定的厚度后,第一晶振被移离而第二晶振被移到监测位置,对膜厚进行连续监测。本案提供的镀膜时膜厚监测装置可精确地监控厚膜层的厚度,从而保证准确完成复杂膜系的镀膜,提高了产品的良率;同时可以实现复杂膜系厚度的准确监测,而且成本低,方法简单。
申请公布号 CN205373621U 申请公布日期 2016.07.06
申请号 CN201521041410.7 申请日期 2015.12.15
申请人 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司 发明人 周东平
分类号 G01B7/06(2006.01)I 主分类号 G01B7/06(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种镀膜膜厚监测装置,其特征在于,包括:挡板(1),设于挡板上的通孔(2),第一晶振(3),第二晶振(4),其中,第一晶振与第二晶振的监测位置相同,通孔处为监测位置,第一晶振在监测位置被镀膜时,遮挡第二晶振;当第一晶振被镀膜到一定的厚度后,第一晶振被移离而第二晶振被移到监测位置,对膜厚进行连续监测。
地址 215000 江苏省苏州市工业园区娄阳路6号中新科技工业坊三期2-1-B、2-2-B