| 发明名称 | 氧化退火处理装置和使用氧化退火处理的薄膜晶体管的制造方法 | ||
| 摘要 | 在氧化退火处理装置(1)的密闭容器状的装置主体(3)的内部配置有远红外线面状加热器(6)，连接对装置主体(3)内供给包含水蒸气和氧气的氧补充气体的氧补充气体供给管(8)和将装置主体(3)内的气体排出的排气管(11)，使氧补充气体供给管(8)与对基板(50)的氧缺陷部位喷射包含水蒸气和氧气的氧补充气体的喷嘴喷射口(16)连通。由此，即使是大型基板也能够在防止产生漏泄电流的同时以高吞吐量和低成本进行氧化退火处理。 | ||
| 申请公布号 | CN103201828B | 申请公布日期 | 2016.06.29 |
| 申请号 | CN201180053396.0 | 申请日期 | 2011.10.28 |
| 申请人 | 夏普株式会社 | 发明人 | 太田纯史;桥本真人 |
| 分类号 | H01L21/324(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/324(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 一种氧化退火处理装置，其特征在于，包括：密闭容器状的装置主体；配置在所述装置主体的内部的远红外线面状加热器；向所述装置主体内供给包含水蒸气和氧气的氧补充气体的氧补充气体供给管；将所述装置主体内的气体排出的排气管；喷嘴喷射口，其与所述氧补充气体供给管连通，对基板的氧缺陷部位喷射所述包含水蒸气和氧气的氧补充气体；和使所述装置主体的内部空间充满氮气的氮气供给管，在使所述装置主体充满所述氮气的状态下，从所述喷嘴喷射口喷射所述氧补充气体。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||