| 发明名称 | 掩模框架组件和制造该掩模框架组件的方法 | ||
| 摘要 | 一种掩模框架组件包括框架和掩模，掩模包括具有图案孔的图案部分和形状记忆合金部分。一种制造掩模框架组件的方法包括：在掩模上形成具有图案孔的掩模部分和形状记忆合金部分，形状记忆合金部分在沉积温度下在第一方向上延伸；以及通过使掩模在室温下在垂直于第一方向的第二方向上延伸将掩模联接到框架。 | ||
| 申请公布号 | CN105720213A | 申请公布日期 | 2016.06.29 |
| 申请号 | CN201510557180.8 | 申请日期 | 2015.09.03 |
| 申请人 | 三星显示有限公司 | 发明人 | 金柾勋;吴允灿;金暲祐;卢熙锡;朴封俊;安太龙;张大植;郑哲珪;洪宰敏 |
| 分类号 | H01L51/56(2006.01)I;G03F1/00(2012.01)I | 主分类号 | H01L51/56(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人 | 刘钊;周艳玲 |
| 主权项 | 一种掩模框架组件，包括：框架；和在室温下在第一方向上延伸并被联接到所述框架的掩模，并且其中所述掩模包括具有图案孔的图案部分和形状记忆合金部分。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||