一种用于微纳米粉体的磁控溅射连续镀膜设备

摘要

本实用新型涉及一种用于微纳米粉体的磁控溅射连续镀膜设备，包括真空腔体(1)、输送带(2)、旋转振动装置(3)、连续下料装置(10)、磁控溅射装置(11)、收料仓(12)和储料仓(13)，其中旋转振动装置包括旋转振动杆(4)、传动杆(5)、联轴器(6)、密封件(7)、法兰(8)和转动电机(9)。该设备可将转动电机(9)放置于真空腔体(1)外部，避免磁场、电场、温度对电机的影响，增加设备的工艺稳定性及使用寿命，同时利用转动电机(9)和旋转振动杆(4)带动输送带(2)振动，实现输送带上表面粉体抖动，保证粉体镀膜均一性。

主权项

一种用于微纳米粉体的磁控溅射连续镀膜设备，包括真空腔体(1)、输送带(2)、旋转振动装置(3)、连续下料装置(10)、磁控溅射装置(11)、收料仓(12)和储料仓(13)，其中旋转振动装置(3)包括旋转振动杆(4)、传动杆(5)、联轴器(6)、密封件(7)、法兰(8)和转动电机(9)，其特征在于所述转动电机(9)置于真空腔体(1)外部。