| 摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zum Vorausrichten eines flachen Substrats, insbesondere eines Wafers, welches über eine Folie an einem Rahmen angeordnet ist, vor einem nachfolgenden Bearbeitungsprozess. Damit eine solche Vorausrichtung auf einfache Weise durchgeführt werden kann, ist folgendes vorgesehen: a) der Rahmen mit dem daran befindlichen flachen Substrat wird in einer Messvorrichtung, insbesondere auf einer Auflageeinrichtung der Messvorrichtung, angeordnet; b) in der Messvorrichtung werden mittels wenigstens eines Sensorelements Versatzwerte bezüglich des Versatzes des Substrats zum Zentrum der Messvorrichtung und/oder des Versatzes des Rahmens zum Zentrum der Messvorrichtung, insbesondere zum Zentrum der Auflageeinrichtung, ermittelt; c) die ermittelten Versatzwerte werden über eine der Messvorrichtung zugeordnete Schnittstelle an eine Handhabungseinrichtung zum Handhaben des Substrats übertragen; d) die Handhabungseinrichtung wird anhand der empfangenen Versatzwerte entsprechend bewegt, derart, dass der Rahmen mit dem daran befindlichen Substrat ausgerichtet aufgenommen wird oder dass der Rahmen mit dem daran befindlichen Substrat ausgerichtet an einer Zielposition abgeladen wird. |
