发明名称 一种特质ε-HNIW晶体及其制备方法
摘要 本发明公开了一种特质ε-HNIW晶体及其制备方法,所述晶体HNIW含量≥99.5%;ε-HNIW含量≥95.0%;晶体密度≥2.033g/cm<sup>3</sup>,外观观测无尖锐棱角,晶面无裂纹,晶间无包夹物;晶体短长轴比≥0.75,投影面积周长比≥0.80;粒度分布在150~300μm之间的晶体含量占总量的50~80%。本发明的制备方法中,不需要添加晶种,通过调节反溶剂添加速率和搅拌速率,以达到控制晶体形貌和粒度分布的目的。具有操作简单,反溶剂用量少,反应条件温和,安全可靠,绿色高效,并容易实现产业化等优点。
申请公布号 CN105693734A 申请公布日期 2016.06.22
申请号 CN201610149380.4 申请日期 2016.03.15
申请人 北京理工大学 发明人 郭学永;崔超;焦清介;任慧;闫石
分类号 C07D487/22(2006.01)I 主分类号 C07D487/22(2006.01)I
代理机构 北京思创毕升专利事务所 11218 代理人 韦庆文
主权项 一种特质ε‑HNIW晶体,其特征在于:所述晶体HNIW含量≥99.5wt%;ε‑HNIW含量≥95.0wt%;晶体密度≥2.033g/cm<sup>3</sup>,外观观测无尖锐棱角,晶面无裂纹,晶间无包夹物;晶体短长轴比≥0.75,投影面积周长比≥0.80;粒度分布在150~300μm之间的晶体含量占总量的50~80wt%。
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