发明名称 | 一种特质ε-HNIW晶体及其制备方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种特质ε-HNIW晶体及其制备方法,所述晶体HNIW含量≥99.5%;ε-HNIW含量≥95.0%;晶体密度≥2.033g/cm<sup>3</sup>,外观观测无尖锐棱角,晶面无裂纹,晶间无包夹物;晶体短长轴比≥0.75,投影面积周长比≥0.80;粒度分布在150~300μm之间的晶体含量占总量的50~80%。本发明的制备方法中,不需要添加晶种,通过调节反溶剂添加速率和搅拌速率,以达到控制晶体形貌和粒度分布的目的。具有操作简单,反溶剂用量少,反应条件温和,安全可靠,绿色高效,并容易实现产业化等优点。 | ||
申请公布号 | CN105693734A | 申请公布日期 | 2016.06.22 |
申请号 | CN201610149380.4 | 申请日期 | 2016.03.15 |
申请人 | 北京理工大学 | 发明人 | 郭学永;崔超;焦清介;任慧;闫石 |
分类号 | C07D487/22(2006.01)I | 主分类号 | C07D487/22(2006.01)I |
代理机构 | 北京思创毕升专利事务所 11218 | 代理人 | 韦庆文 |
主权项 | 一种特质ε‑HNIW晶体,其特征在于:所述晶体HNIW含量≥99.5wt%;ε‑HNIW含量≥95.0wt%;晶体密度≥2.033g/cm<sup>3</sup>,外观观测无尖锐棱角,晶面无裂纹,晶间无包夹物;晶体短长轴比≥0.75,投影面积周长比≥0.80;粒度分布在150~300μm之间的晶体含量占总量的50~80wt%。 | ||
地址 | 100081 北京市海淀区中关村南大街5号 |