发明名称 一种无损测量纳米线阵列比表面积和密集度的装置及方法
摘要 本发明公开了一种无损测量纳米线阵列比表面积和密集度的装置,所述纳米线阵列垂直设于导电基底层顶面,该装置包括电解池,设于所述导电基底层底面的背电极,设于所述纳米线阵列对应侧的对电极,以及覆盖于所述导电基底层顶面未生长纳米线区域的绝缘层;所述纳米线阵列和所述对电极浸入所述电解池中的电解液内,同时所述导电基底层和所述背电极与所述电解液绝缘设置,最后在所述背电极和所述对电极之间加上偏压<i>U</i>形成电解池回路结构,其优点在于,本发明测量纳米线阵列比表面积和密集度的方法为无损测量,同时适用于大面积一维纳米结构阵列的比表面积和密集度测量,且不会破坏纳米线阵列的完整性。
申请公布号 CN104075973B 申请公布日期 2016.06.15
申请号 CN201410235322.4 申请日期 2014.05.30
申请人 苏州大学 发明人 李孝峰;吴绍龙;程国安;詹耀辉;杨阵海;曹国洋
分类号 G01N15/08(2006.01)I 主分类号 G01N15/08(2006.01)I
代理机构 北京康盛知识产权代理有限公司 11331 代理人 伊美年
主权项 一种无损测量纳米线阵列比表面积和密集度的装置,所述纳米线阵列垂直设于导电基底层顶面,其特征在于,该装置包括电解池,设于所述导电基底层底面的背电极,设于所述纳米线阵列对应侧的对电极,以及覆盖于所述导电基底层顶面未生长纳米线区域的绝缘层;所述纳米线阵列和所述对电极浸入所述电解池中的电解液内;所述电解液的电阻率是被测纳米线阵列电阻率的1/1000以下;同时所述导电基底层和所述背电极与所述电解液绝缘设置,最后在所述背电极和所述对电极之间加上偏压U形成电解池回路结构。
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