发明名称 |
一种基于REBCO模版的SERS基底及制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种基于REBCO模版的SERS基底及其制备方法,所述SERS基底包括REBCO模版层及所述REBCO模版层外表镀覆的金属修饰层;其中,所述REBCO模版层的厚度在10~2000nm连续可调,结构从非晶到多晶,a、b轴取向及c轴取向或混合取向任意可调;所述金属修饰层为金属薄膜或者金属颗粒层;所述金属修饰层的厚度为5~200nm。本发明的基底及其制备方法与现有技术相比,优势在于:利用本发明制备的SERS基底均一性好,灵敏度高,且具有金属柔性特征,可满足多种应用需求;REBCO生长机理和生长方法已被大量研究,精确控制下的产业化生产容易实现;同时本发明的制备方法简单,生长过程中的实验参数相对化学方法更加容易控制,产业化制备成本可以低于0.5$/cm<sup>2</sup>。 |
申请公布号 |
CN105671492A |
申请公布日期 |
2016.06.15 |
申请号 |
CN201610031709.7 |
申请日期 |
2016.01.18 |
申请人 |
上海交通大学 |
发明人 |
王斌斌;刘林飞;李贻杰;吴祥;姚艳婕;王梦麟 |
分类号 |
C23C14/28(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;G01N21/65(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/28(2006.01)I |
代理机构 |
上海汉声知识产权代理有限公司 31236 |
代理人 |
郭国中 |
主权项 |
一种基于REBCO模版的SERS基底,其特征在于,所述SERS基底包括REBCO模版层及所述REBCO模版层外表镀覆的金属修饰层;其中,所述REBCO模版层的厚度在10~2000nm连续可调,结构从非晶到多晶,a、b轴取向及c轴取向或混合取向任意可调;所述金属修饰层为金属薄膜或者金属颗粒层;所述金属修饰层的厚度为5~200nm。 |
地址 |
200240 上海市闵行区东川路800号 |