检查装置、检查方法、曝光方法、以及半导体元件的制造方法

摘要

表面检查装置(1)，具备：载台(5)，支承通过曝光装置(100)进行曝光而于表面形成有既定图案的晶片(10)；照明系统(20)，将照明光照射于支承在载台(5)的晶片(10)的表面；摄影装置(35)，检测来自照射照明光的晶片(10)的表面的光并输出检测信号；以及图像处理部(40)，根据从摄影装置(35)所输出的检测信号以判定曝光时的聚焦状态。

主权项

一种检查装置，具备：照明部，将照明光照射于具有反复既定范围的曝光所制作的多个图案的基板的该图案；检测部，一次检测来自该照明光照射的该基板的该既定范围的该图案的光；以及运算部，比较表示形成图案时的曝光状态偏置与该检测部的检测结果之间的关系的第一曝光状态曲线、与表示形成判定对象图案时的曝光状态偏置与来自该判定对象图案的由该检测部所测得的检测结果之间的关系的第二曝光状态曲线，求出该判定对象图案曝光时的曝光状态。