发明名称 光敏二极管
摘要 本发明涉及一种光敏二极管,在一P型衬底中形成有N型阱区,N型阱区的表面设有硅化物层,硅化物层的表面设置有多晶硅层;位于硅化物层左右两侧的N型阱区中分别设置有第一P型有源区和第二P型有源区,第一、第二P型有源区的表面分别设置有第一、第二接触孔,第一接触孔内侧与第二接触孔内侧之间构成感光区;位于第一P型有源区左侧的N型阱区内还设置有第一N型重掺杂区域,位于第二P型有源区右侧的N型阱区内还设置有第二N型重掺杂区域;位于第一N型重掺杂区域的左右两侧的P型衬底中分别设有第三、第四P型重掺杂区域,第一、第二N型重掺杂区域和第三、第四P型重掺杂区域中分别设置有第三、第四、第五、第六接触孔。
申请公布号 CN103606587B 申请公布日期 2016.06.08
申请号 CN201310506692.2 申请日期 2013.10.23
申请人 上海华力微电子有限公司 发明人 张宁;王本艳;刘小玲
分类号 H01L31/103(2006.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;H01L27/144(2006.01)I 主分类号 H01L31/103(2006.01)I
代理机构 上海申新律师事务所 31272 代理人 竺路玲
主权项 一种光敏二极管,包括:多晶硅层、硅化物层、P型重掺杂区域、N型重掺杂区域、N型阱区、P型衬底和接触孔,其特征在于,所述P型衬底中形成有所述N型阱区,所述N型阱区的表面设有硅化物层,所述硅化物层的表面设置有多晶硅层;位于所述硅化物层左侧的N型阱区内设置有第一P型有源区,位于所述硅化物层右侧的N型阱区内设置有第二P型有源区,所述第一P型有源区和所述第二P型有源区通过所述硅化物层隔开;所述第一P型有源区的表面设置有第一接触孔,所述第二P型有源区的表面设置有第二接触孔,所述第一接触孔内侧与所述第二接触孔内侧之间构成感光区;位于所述第一P型有源区左侧的N型阱区内还设置有第一N型重掺杂区域,位于所述第二P型有源区右侧的N型阱区内还设置有第二N型重掺杂区域;所述第一N型重掺杂区域的表面设置有第三接触孔,所述第二N型重掺杂区域的表面设置有第四接触孔;位于所述第一N型重掺杂区域左侧的P型衬底中设置有第三P型重掺杂区域,位于所述第二N型重掺杂区域右侧的P型衬底中设置有第四P型重掺杂区域;所述第三P型重掺杂区域的表面设置有第五接触孔,所述第四P型重掺杂区域的表面设置有第六接触孔。
地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号