| 发明名称 | 一种压力烧结高密度ITO旋转靶材 | ||
| 摘要 | 一种压力烧结高密度ITO旋转靶材，包括高密度ITO旋转靶材，所述高密度ITO旋转靶材整体呈圆筒状，高密度ITO旋转靶材内部设有内衬管，该内衬管的材料为钛，内衬管与高密度ITO旋转靶材之间设有邦定层，该邦定层的材料为铟；该压力烧结高密度ITO旋转靶材为高密度ITO旋转靶材，采用压力烧结的方式制造而成，密度高达99%以上，性能优良，靶材密度比较均匀，值得大力推广。 | ||
| 申请公布号 | CN205295447U | 申请公布日期 | 2016.06.08 |
| 申请号 | CN201520909787.3 | 申请日期 | 2015.11.16 |
| 申请人 | 深圳恒泰克科技有限公司 | 发明人 | 胡茂横 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 一种压力烧结高密度ITO旋转靶材，包括高密度ITO旋转靶材（1），其特征在于，所述高密度ITO旋转靶材（1）整体呈圆筒形，高密度ITO旋转靶材（1）内部设有内衬管（2），该内衬管（2）与高密度ITO旋转靶材（1）之间设有邦定层（3）。 | ||
| 地址 | 518000 广东省深圳市坪山新区碧岭社区金碧路590号2#厂房1楼A区 | ||