发明名称 |
MOSFET阈值电压波动模型的提取方法及装置 |
摘要 |
一种MOSFET阈值电压波动模型的提取方法及装置,所述方法包括:选取一MOSFET,所选取的MOSFET阈值电压相对设计目标值的偏移量为Vt’;在所选取的MOSFET栅极施加预设的调节电压,其他各电极施加相应的工作电压,提取所选取的MOSFET在所述调节电压下对应的阈值电压波动模型。应用所述方法及装置可以提高MOSFET阈值电压波动模型的准确性。 |
申请公布号 |
CN105653823A |
申请公布日期 |
2016.06.08 |
申请号 |
CN201610067356.6 |
申请日期 |
2016.01.29 |
申请人 |
上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
发明人 |
高超;孔蔚然 |
分类号 |
G06F17/50(2006.01)I |
主分类号 |
G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
张凤伟;吴敏 |
主权项 |
一种MOSFET阈值电压波动模型的提取方法,其特征在于,包括:选取一MOSFET,所选取的MOSFET阈值电压相对设计目标值的偏移量为Vt’;在所选取的MOSFET栅极施加预设的调节电压,其他各电极施加相应的工作电压,提取所选取的MOSFET在所述调节电压下对应的阈值电压波动模型。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 |