发明名称 一种基于光子晶体混强场的激光冲击设备及方法
摘要 本发明公开了一种基于光子晶体混强场的激光冲击设备及方法,包括两个对称设置的腔体,两个腔体上均设有若干用于设置激光器的激光入射口,且两个腔体上的激光入射口关于两个腔体的对称轴对称设置;两个腔体上相对的位置对称设有激光出射口,且两个腔体上的激光出射口通过腔体连接板连通,腔体连接板上固定有用于夹持工件的夹紧装置,两个腔体上的激光出射口处均设有能够打开或关闭的挡板,腔体、腔体连接板以及挡板的内侧均设有光子晶体结构材料。本发明对工件整体进行冲击强化,因而效率更高,且不易造成工件宏观变形,并可作用于复杂型面。
申请公布号 CN105648200A 申请公布日期 2016.06.08
申请号 CN201610056249.3 申请日期 2016.01.27
申请人 西安交通大学 发明人 吴九汇;张东哲
分类号 C21D10/00(2006.01)I 主分类号 C21D10/00(2006.01)I
代理机构 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人 陆万寿
主权项 一种基于光子晶体混强场的激光冲击设备,其特征在于,包括两个对称设置的腔体(1),两个腔体(1)上均设有若干用于设置激光器(3)的激光入射口,且两个腔体(1)上的激光入射口关于两个腔体(1)的对称轴对称设置;两个腔体(1)上相对的位置对称设有激光出射口,且两个腔体(1)上的激光出射口通过腔体连接板(8)连通,腔体连接板(8)上固定有用于夹持工件(4)的夹紧装置(5),两个腔体(1)上的激光出射口处均设有能够打开或关闭的挡板(7),腔体(1)、腔体连接板(8)以及挡板(7)的内侧均设有光子晶体结构材料(2)。
地址 710049 陕西省西安市碑林区咸宁西路28号
您可能感兴趣的专利