发明名称 一种不同涨落源对器件电学特性影响幅度的提取方法
摘要 本发明公开了一种不同涨落源对器件电学特性影响幅度的提取方法,属于微电子器件领域。该提取方法利用每个器件的转移曲线I<sub>d</sub>-V<sub>g</sub>,从曲线上提取得到各个器件的阈值电压V<sub>th</sub>和亚阈摆幅SS;从而得到分离后的不同涨落源LER和WFV所造成的器件阈值电压V<sub>th</sub>涨落的大小。采用本发明可以实现对涨落源影响幅度加以评估和比较,为工艺优化提供一个很好的指导方向。
申请公布号 CN105652175A 申请公布日期 2016.06.08
申请号 CN201610014931.6 申请日期 2016.01.11
申请人 北京大学 发明人 王润声;蒋晓波;黄如
分类号 G01R31/26(2014.01)I 主分类号 G01R31/26(2014.01)I
代理机构 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 代理人 贾晓玲
主权项 一种不同涨落源对器件电学特性影响幅度的提取方法,其特征在于,包括:1)测量器件的转移曲线I<sub>d</sub>‑V<sub>g</sub>,从曲线上提取得到器件的阈值电压V<sub>th</sub>和亚阈摆幅SS;2)计算V<sub>th</sub>和SS的方差σ<sup>2</sup>(V<sub>th</sub>)、σ<sup>2</sup>(SS),以及V<sub>th</sub>和SS的协方差Σ;3)由公式<img file="FDA0000903983500000011.GIF" wi="461" he="142" />得到LER造成的阈值电压涨落幅度σ(δV<sub>th,LER</sub>);4)由公式<maths num="0001"><math><![CDATA[<mrow><msup><mi>&sigma;</mi><mn>2</mn></msup><mrow><mo>(</mo><msub><mi>&delta;V</mi><mrow><mi>t</mi><mi>h</mi><mo>,</mo><mi>W</mi><mi>F</mi><mi>V</mi></mrow></msub><mo>)</mo></mrow><mo>=</mo><msup><mi>&sigma;</mi><mn>2</mn></msup><mrow><mo>(</mo><msub><mi>V</mi><mrow><mi>t</mi><mi>h</mi></mrow></msub><mo>)</mo></mrow><mo>-</mo><msup><mi>&sigma;</mi><mn>2</mn></msup><mrow><mo>(</mo><msub><mi>&delta;V</mi><mrow><mi>t</mi><mi>h</mi><mo>,</mo><mi>L</mi><mi>E</mi><mi>R</mi></mrow></msub><mo>)</mo></mrow><mo>=</mo><msup><mi>&sigma;</mi><mn>2</mn></msup><mrow><mo>(</mo><msub><mi>V</mi><mrow><mi>t</mi><mi>h</mi></mrow></msub><mo>)</mo></mrow><mo>-</mo><mfrac><mrow><msup><mi>&sigma;</mi><mn>2</mn></msup><mrow><mo>(</mo><mi>S</mi><mi>S</mi><mo>)</mo></mrow></mrow><msup><mi>k</mi><mn>2</mn></msup></mfrac><mo>,</mo></mrow>]]></math><img file="FDA0000903983500000012.GIF" wi="1095" he="142" /></maths>得到WFV造成都阈值电压涨落幅度σ(δV<sub>th,WFV</sub>)。
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