铝质等离子体室部件的清洁方法

摘要

一种清洁等离子体室组件表面的方法，其中：该组件具有铝或阳极化铝表面，该方法包括步骤：把该组件的该表面浸泡在稀释的硫酸过氧化物（DSP）溶液中；把该表面从该DSP溶液中移除之后，喷射冲洗该表面；把该表面浸泡在稀硝酸（HNO₃）溶液中；把该表面从该硝酸溶液中移除之后，喷射冲洗该表面；且重复在稀硝酸中浸泡该表面然后喷射冲洗该表面的步骤至少两次。

主权项

一种清洁处理半导体基板的等离子体室的组件的铝或阳极化铝表面的方法，该方法包括：把该表面浸泡在稀释的硫酸过氧化物溶液中；把该表面从该稀释的硫酸过氧化物溶液中移除之后，喷射冲洗该表面；把该表面浸泡在稀硝酸溶液中，所述稀硝酸溶液具有浓度为2至5wt％的HNO₃和作为余量的水；把该表面从该稀硝酸溶液移除之后，喷射冲洗该表面；且重复在稀硝酸中浸泡该表面和把该表面从该稀硝酸溶液中移除之后喷射冲洗该表面的步骤至少两次。