一种回转弹性体研磨抛光方法

摘要

本发明公开了一种回转弹性体研磨抛光方法。所述研磨抛光方法利用回转弹性体研磨抛光设备对工件进行研磨抛光；所述研磨抛光方法包括如下步骤：S1、将回转弹性体研磨抛光装置安装在主轴箱下部主轴头上；将待加工工件安装在回转工作台上，使得回转弹性体与待加工工件的上表面接触，并在接触处形成具有一定压力的研抛接触区域；S2、回转弹性体与回转弹性体研磨抛光装置的回转运动、滑台的前后移动，主轴箱的上下左右移动，使研磨元件或抛光元件与待加工工件之间形成复合研抛切削运动与进给运动；S3、对待加工工件进行研磨抛光，研磨抛光过程中，在研抛接触区域注入研磨抛光液。本发明具有高研抛速度、研磨磨粒固结、研抛轨迹复杂、加工过程可控等特点。

主权项

一种回转弹性体研磨抛光方法，利用回转弹性体研磨抛光设备对工件进行研磨抛光；其特征在于，所述回转弹性体研磨抛光设备包括机床本体（1）和回转弹性体研抛装置（2）；所述机床本体（1）包括底座（11），该底座（11）上安装有可前后移动的滑台（16）；所述滑台（16）上装有用于放置待加工工件（3）的回转工作台（15）；所述回转工作台（15）上方设有可上下左右移动的主轴箱（14），该主轴箱（14）的主轴头（141）与所述的回转弹性体研抛装置（2）相连；所述回转弹性体研抛装置（2）包括用于装在转轴上的轮毂（212），包绕在轮毂（212）外周上的环形的弹性本体（211），以及固定在弹性本体（211）外周上的研磨元件或抛光元件；所述回转弹性体（21）上装有驱动所述轮毂（212）回转的驱动装置，使该回转弹性体（21）的研磨元件或抛光元件在回转工作时与所述待加工工件（3）的上表面接触；所述研磨抛光方法包括如下步骤：S1、将回转弹性体研磨抛光装置（2）安装在主轴箱（14）下部主轴头（141）上；将待加工工件（3）安装在回转工作台（15）上，使得回转弹性体（21）与待加工工件（3）的上表面接触，形成研抛接触区域；S2、回转弹性体（21）的回转运动、回转弹性体研磨抛光装置（2）的回转运动，以及主轴箱（14）的移动，使研磨元件或抛光元件与待加工工件（3）之间形成复合研抛切削运动；S3、对待加工工件（3）进行研磨抛光，研磨抛光过程中，在研抛接触区域注入研磨抛光液。