发明名称 基板処理装置
摘要 本発明の一実施形態によると,基板処理装置は外部から移送された基板を収容する内部空間を有し,前記内部空間で前記基板に対する工程が行われる工程チャンバと,前記工程チャンバの側壁に沿って設置されて前記内部空間の周縁に配置され,前記基板を加熱する熱線ヒータと,前記熱線ヒータの間に配置されて前記工程チャンバの側壁に沿って設置され,外部から供給された冷媒が流れる冷却チューブと,を含む。【選択図】図3
申请公布号 JP2016516292(A) 申请公布日期 2016.06.02
申请号 JP20150561261 申请日期 2014.02.17
申请人 ユ−ジーン テクノロジー カンパニー.リミテッド 发明人 ヤン,イル−クヮン;ソン,ビョン−ギュ;キム,キョン−フン;キム,ヨン−キ;シン,ヤン−シク
分类号 H01L21/324;H01L21/20 主分类号 H01L21/324
代理机构 代理人
主权项
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