进气系统及半导体加工设备

摘要

本发明提供一种进气系统及半导体加工设备，包括用于输送非饱和蒸汽气体的第一气路、用于输送饱和蒸汽气体的第二气路、与反应腔室连接的第三气路以及缓冲容器，该缓冲容器包括多个进气口和一个出气口，多个进气口均位于缓冲容器的同一侧，出气口位于缓冲容器与各个进气口所在一侧相对的另一侧；缓冲容器的直径大于各个进气口的直径；第一气路和第二气路相互平行，并一一对应地与各个进气口连接；第三气路与出气口连接。本发明提供的进气系统，其不仅对输送气体的最大流量没有影响，而且还可以避免在饱和蒸汽气体与非饱和蒸汽气体的混合时，因前者的气压大于后者的气压而对饱和蒸汽气体产生的冲抵作用，从而可以保证多路气体的正常进气。

主权项

一种进气系统，包括用于输送非饱和蒸汽气体的第一气路、用于输送饱和蒸汽气体的第二气路以及与反应腔室连接的第三气路，其特征在于，还包括缓冲容器，所述缓冲容器包括多个进气口和一个出气口，所述多个进气口均位于所述缓冲容器的同一侧，所述出气口位于所述缓冲容器与各个进气口所在一侧相对的另一侧；并且，所述缓冲容器的直径大于各个进气口的直径；所述第一气路和第二气路相互平行，并一一对应地与各个进气口连接；所述第三气路与所述出气口连接。