| 发明名称 | 清洗装置及其使用方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种清洗装置及其使用方法，属于显示领域。所述清洗装置包括：喷出组件，喷出组件包括两个结构件，两个结构件之间形成有间隙，间隙的大小能够调节，清洗液能够从间隙向待清洗结构的待清洗表面喷出，且清洗液的喷出方向与待清洗表面存在倾角。本发明解决了基板清洗的效果较差的问题，提高了清洗的效果，本发明用于基板的清洗。 | ||
| 申请公布号 | CN105629530A | 申请公布日期 | 2016.06.01 |
| 申请号 | CN201610035176.X | 申请日期 | 2016.01.19 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 井杨坤 |
| 分类号 | G02F1/13(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/13(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人 | 鞠永善 |
| 主权项 | 一种清洗装置，其特征在于，所述清洗装置包括：喷出组件，所述喷出组件包括两个结构件，所述两个结构件之间形成有间隙，所述间隙的大小能够调节，清洗液能够从所述间隙向待清洗结构的待清洗表面喷出，且所述清洗液的喷出方向与所述待清洗表面存在倾角。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||