铬靶材的制作方法

摘要

一种铬靶材的制作方法，包括：首先提供铬粉末；接着将铬粉末放置入真空包套并抽真空；然后采用热等静压工艺对真空包套内的铬粉末进行烧结成型，形成铬靶材；完成烧结成型后，进行冷却并拆除真空包套取出铬靶材。采用本发明提供的铬靶材的制作方法，避免使用模具，同时，形成的铬靶材的致密度、内部组织结构的均匀性优于采用热压形成的铬靶材的致密度、内部组织结构的均匀性，而且，铬靶材的纯度也能满足要求越来越高的溅射工艺。

主权项

一种铬靶材的制作方法，其特征在于，包括：提供铬粉末；将铬粉末放置入真空包套并抽真空；采用热等静压工艺对真空包套内的铬粉末进行烧结成型，形成铬靶材；完成烧结成型后，进行冷却并拆除真空包套取出铬靶材；所述热等静压工艺具体参数为：设置热等静压炉的热等静压温度为大于等于1200℃且小于等于1300℃，升温速度为10℃/min～15℃/min，设置热等静压炉的热等静压压力为大于等于130MPa且小于等于150MPa，并在此压力下保压4小时～6小时；铬粉末颗粒系统满足：Dv/(2a)³＝1，Dv为颗粒的体积扩散系数，2a为颗粒粒径；Dv的数量级为10^‑12cm²/s，则铬粉末粒径小于等于1μm，铬粉末的比表面积大于等于1.1m²/g。