发明名称 PATTERN FORMING METHOD, SURFACE TREATMENT AGENT USED THEREFOR, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
摘要 패턴 형성 방법은, (1) 산의 작용에 의하여 분해되어 극성기를 발생하는 수지를 함유하는 제1 감활성 광선성 또는 감방사선성 수지 조성물에 의하여 제1 감활성 광선성 또는 감방사선성 막을 형성하는 공정, (2) 상기 제1 감활성 광선성 또는 감방사선성 막을 노광하는 공정, 3) 유기 용제를 포함하는 현상액을 이용하여 상기 제1 감활성 광선성 또는 감방사선성 막을 현상하여, 제1 현상 패턴을 얻는 공정, (4) 상기 제1 현상 패턴에 대하여, 노광 후의 상기 수지가 갖는 극성기와 상호 작용하는 화합물을 함유하는 표면 처리제를 작용시키는 공정, 및 (5) 알칼리 현상액을 이용하여 상기 제1 현상 패턴을 더 현상하여, 제2 현상 패턴을 얻는 공정을 이 순서로 포함한다.
申请公布号 KR20160058962(A) 申请公布日期 2016.05.25
申请号 KR20167011905 申请日期 2014.11.21
申请人 FUJIFILM CORPORATION 发明人 ENOMOTO YUICHIRO;UEBA RYOSUKE;SHIRAKAWA MICHIHIRO;FURUTANI HAJIME;GOTO AKIYOSHI;KOJIMA MASAFUMI
分类号 G03F7/40;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20 主分类号 G03F7/40
代理机构 代理人
主权项
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