碱性铜粗抛液提高GLSI多层铜布线铜膜粗抛一致性的应用

摘要

本发明涉及一种碱性铜粗抛液提高GLSI多层铜布线铜膜粗抛一致性的应用，主要由SiO₂水溶胶磨料、FA/OⅠ型非离子表面活性剂、FA/OⅡ型螯合剂和双氧水组成碱性铜粗抛液，其特征是：所述碱性铜粗抛液的FA/OⅠ型表面活性剂在GLSI多层铜布线CMP铜膜的高速率下提高粗抛高一致性的应用。有益效果：本发明选用FA/OⅠ型表面活性剂可使抛光表面吸附物处理易清洗的物理吸附状态，有利于表面沾污物的去除，同时减少损伤层，降低表面张力，提高晶片表面质量的均匀性，加快表面质量传递，提高温度分布一致性，达到铜膜表面全局一致性。

主权项

一种碱性铜粗抛液提高GLSI多层铜布线铜膜粗抛一致性的应用，主要由SiO₂水溶胶磨料、FA/OⅠ型表面活性剂、FA/OⅡ型螯合剂和双氧水组成碱性铜粗抛液，其特征是：所述碱性铜粗抛液的FA/OⅠ型表面活性剂在GLSI多层铜布线CMP铜膜的高速率下提高粗抛高一致性的应用。