匀胶机托盘

摘要

本发明公开了一种匀胶机托盘，包括：硅片承片台和真空吸片管，所述硅片承片台的顶端有一硅片承载平面，所述硅片承载平面为一圆形水平面，沿着所述硅片承载平面的圆心向内开设有一储胶槽，并在所述储胶槽的中间设有一个圆台形凸台；所述真空吸片管包括：上端和真空吸片口，所述上端位于所述圆台形凸台内，所述真空吸片口位于所述上端的顶部，并且所述真空吸片口与所述硅片承载平面间的垂直距离大于3mm。通过上述方式，本发明能够有效地阻挡光刻胶被吸入真空吸片口内，避免了真空吸片口因吸入光刻胶而导致的吸力不足或堵塞，同时避免了损伤匀胶台。

主权项

一种匀胶机托盘，包括：硅片承片台和真空吸片管，其特征在于，所述硅片承片台的顶端有一硅片承载平面，所述硅片承载平面为一圆形水平面，沿着所述硅片承载平面的圆心向内开设有一储胶槽，所述储胶槽呈梯形杯体结构，其横截面呈“W”型，并在所述储胶槽的中间设有一个圆台形凸台；所述真空吸片管包括：上端和真空吸片口，所述上端位于所述圆台形凸台内，所述真空吸片口位于所述上端的顶部，并且所述真空吸片口与所述硅片承载平面间的垂直距离大于3mm。