发明名称 衬底保持器、光刻设备、器件制造方法和制造衬底保持器的方法
摘要 本发明公开了一种衬底保持器、光刻设备、器件制造方法和制造衬底保持器的方法。用于光刻设备的衬底保持器具有设置在其表面上的平坦化层。该平坦化层提供平滑表面,用于形成薄膜叠层以形成电子部件。该薄膜叠层包括可选的隔离层、用于形成电极、传感器、加热器、晶体管或逻辑器件的金属层以及顶部隔离层。
申请公布号 CN102645848B 申请公布日期 2016.05.25
申请号 CN201210035459.6 申请日期 2012.02.16
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 R·W·L·拉法瑞;N·坦凯特;N·V·德兹欧姆提那;Y·P·科瑞德;S·A·特兰普;J·J·雷森;E·C·罗登伯格;M·W·L·H·菲特斯;H·于斯曼
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 吴敬莲
主权项 一种用于光刻设备中的衬底保持器,所述衬底保持器包括:主体,所述主体具有表面;多个突节,所述突节从所述表面突出且具有支撑衬底的端面;平坦化层,所述平坦化层设置在所述主体的表面的至少一部分上,所述平坦化层包括第一子层和第二子层,所述第二子层具有不同于所述第一子层的成分;和薄膜叠层,所述薄膜叠层设置在所述平坦化层上且形成电子部件;其中所述电子部件是传感器;所述传感器包括导电体,所述导电体布置成减小或最小化对电磁干扰的接收。
地址 荷兰维德霍温