| 摘要 |
1. Способ, содержащий эксплуатацию реактора для осаждения атомных слоев, выполненного с возможностью осаждения материала на по меньшей мере одной подложке путем последовательных поверхностных реакций самонасыщения; и использование сухого воздуха в реакторе в качестве продувочного газа.2. Способ по п. 1, содержащий использование сухого воздуха в качестве несущего газа.3. Способ по п. 1 или 2, содержащий подачу сухого воздуха в реакционную камеру реактора в течение всей последовательности осаждения.4. Способ по п. 1 или 2, содержащий использование сухого воздуха при нагревании реакционной камеры реактора.5. Способ по п. 1 или 2, содержащий нагревание сухого воздуха после клапана подачи продувочного газа.6. Способ по п. 1 или 2, содержащий обеспечение обратного соединения для подачи тепла из выпускной части реактора в нагреватель линии подачи продувочного газа.7. Способ по п. 1 или 2, содержащий эксплуатацию указанного реактора для осаждения атомных слоев при давлении окружающей среды для осаждения материала на по меньшей мере одной подложке путем последовательных поверхностных реакций самонасыщения.8. Способ по п. 1 или 2, содержащий использование эжектора, присоединенного к выпускной части реактора, для снижения рабочего давления в реакторе.9. Устройство, содержащее реакционную камеру для осаждения атомных слоев, выполненную с возможностью осаждения материала на по меньшей мере одной подложке путем последовательных поверхностных реакций самонасыщения; и линию подачи сухого воздуха из источника сухого воздуха для подачи сухого воздуха в качестве продувочного газа в реакционную камеру реактора.10. Устройство по п. 9, содержащее линию подачи прекурсора, и |
