发明名称 イオン注入のための組成物、システムおよび方法
摘要 ドーパント種の注入用の、イオン注入のための組成物、システムおよび方法を記載する。特定のセレンドーパント源組成物および注入システム特徴、例えばレシピ遷移、ビーム安定性、発生源の寿命、ビーム均一性、ビーム電流および所有するコストにおける有利性を達成するための並行流ガスの使用を記載する。
申请公布号 JP2016514352(A) 申请公布日期 2016.05.19
申请号 JP20150561492 申请日期 2014.03.03
申请人 インテグリス・インコーポレーテッド 发明人 ビル,オレグ;スウィーニー,ジョセフ・ディー;タン,イン;レイ,リチャード・エス
分类号 H01J27/02;H01J37/08;H01J37/317;H01L21/265 主分类号 H01J27/02
代理机构 代理人
主权项
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