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Eine Beleuchtungsoptik (7) für die EUV-Projektionslithografie dient zur Beleuchtung eines Objektfeldes (8) mit Beleuchtungslicht (3). Im Objektfeld (8) ist ein abzubildendes Objekt (19) anordenbar, welches in einer Objektverlagerungsrichtung (y) verlagerbar ist. Eine Übertragungsoptik (14) bildet Feldfacetten eines Feldfacettenspiegels (5) über Ausleuchtungskanäle, denen jeweils eine der Feldfacetten und eine Pupillenfacette eines Pupillenfacettenspiegels (10) zugeordnet ist, einander überlagernd in das Objektfeld (8) ab. Die Überlagerungsoptik (14) hat mindestens zwei Spiegel (12, 13) für streifenden Einfall, die dem Pupillenfacettenspiegel (10) nachgeordnet sind. Die Spiegel (12, 13) für streifenden Einfall erzeugen im Objektfeld (8) eine Beleuchtungswinkelbandbreite eines aus den Ausleuchtungskanälen zusammengesetzten Beleuchtungslicht-Gesamtbündels (3G), welches für eine Einfallsebene (yz) parallel zur Objektverlagerungsrichtung (y) kleiner ist als für eine Ebene (xz) senkrecht hierzu. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, über die eine Projektionsoptik an eine Konfiguration einer EUV-Lichtquelle für das Beleuchtungslicht angepasst werden kann. |
