光掩模、光掩模的制造方法以及图案的转印方法

摘要

本发明获得能够可靠精致地转印细微图案的光掩模、转印方法、以及平板显示器的制造方法。是在透明基板上形成了包括至少对曝光光的一部分进行遮挡的遮光部、和上述透明基板露出的透光部的转印用图案的光掩模，上述遮光部具有以规定宽度沿上述遮光部的外周形成的边缘区域、和在上述遮光部中形成于上述边缘区域以外的部分的区域，上述区域形成为相对于透过上述透光部的上述曝光光所包含的代表波长的光具有大致180度的相移量，上述边缘区域形成为与上述区域相比，相对于上述代表波长的光的相移量小，并且在上述边缘区域形成有相对于上述代表波长的光具有50％以下的透过率的光学膜。

主权项

一种光掩模，是在透明基板上形成了包括至少对曝光光的一部分进行遮挡的遮光部、和所述透明基板露出的透光部的转印用图案的、平板显示器制造用的光掩模，其特征在于，所述遮光部具有以规定宽度沿所述遮光部的外周形成的边缘区域、和在所述遮光部中形成于所述边缘区域以外的部分的中央区域，在所述中央区域形成有相对于透过所述透光部的所述曝光光所包含的代表波长的光具有大致180度的相移量的相移膜，所述边缘区域具有层叠了所述相移膜和透过调整膜而成的光学膜，从而与所述中央区域相比，相对于所述代表波长的光的相移量较小，并且相对于所述代表波长的光具有50％以下的透过率，所述透过调整膜相对于所述代表波长的光具有0.1％以上80％以下的透过率，90～270度的相移量。