发明名称 微影制程中水洗工艺用清洗装置
摘要 本实用新型公开了一种微影制程中水洗工艺用清洗装置,包括依次连接的输送装置、第一清洗装置、第二清洗装置和回收装置,所述第一清洗装置包括第一槽体,所述第一槽体上设有第一进液口和第一出液口,所述第二清洗装置包括第二槽体,所述第二槽体上设有第二进液口和第二出液口,所述第一出液口的高度不低于所述第二进液口和第二出液口的高度。本实用新型所述微影制程中水洗工艺用清洗装置将较为干净的洗液输送至浑浊的洗液中再利用,将洗液循环利用,减少了洗液的用量以及污水的排出量,降低了生产成本。
申请公布号 CN205236511U 申请公布日期 2016.05.18
申请号 CN201520905973.X 申请日期 2015.11.13
申请人 昆山鼎鑫电子有限公司 发明人 刘爱斌;蔡闯;朱佔涛;郑贵平
分类号 B08B3/04(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I 主分类号 B08B3/04(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 孙晓宇
主权项 一种微影制程中水洗工艺用清洗装置,其特征在于,包括依次连接的输送装置、第一清洗装置、第二清洗装置和回收装置,所述第一清洗装置包括第一槽体,所述第一槽体上设有第一进液口和第一出液口,所述第二清洗装置包括第二槽体,所述第二槽体上设有第二进液口和第二出液口,所述第一出液口的高度不低于所述第二进液口和第二出液口的高度。
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