| 摘要 |
본 출원은, 광염소화 방법, 또한 구체적으로는 트리클로로메틸-기-치환된 벤젠을 제조하기 위한 아렌 화합물과 기체상 염소의 반응에 의해 형성되는 광염소화 방법, 및 추가의 반응에 의해 비스-(클로로포르밀)-벤젠을 제조하기 위해 트리클로로메틸-기-치환된 벤젠인 비스-(트리클로로메틸)-벤젠을 사용하는 방법에 관한 것이다. 본 출원의 이점은, 용매, 자유 라디칼 개시제 또는 감광제 등의 추가의 성분이 필요하지 않고, 간단히 반응단들의 조건, 및 광원의 파장 및 강도를 제어함으로써, 생성물의 순도가 향상된다는 것이다. 본 출원은 또한, 트리클로로메틸-기-치환된 벤젠의 분자 증류 방법, 및 광염소화 반응 (예컨대 본 출원의 것들)에 사용하기 위한 광염소화 반응기에 관한 것이다. |
