| 发明名称 |
包含膜之装置及其制造方法 |
| 摘要 |
形态之装置之制造方法系于具有第1面及第2面之基板之第2面侧形成膜，自第1面侧以使膜残留之方式于基板局部形成槽，并自第2面侧向膜喷射物质，而去除形成槽之部位之第2面侧之膜。
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| 申请公布号 |
TW201618174 |
申请公布日期 |
2016.05.16 |
| 申请号 |
TW104128894 |
申请日期 |
2015.09.02 |
| 申请人 |
东芝股份有限公司 |
发明人 |
鹰野正宗 |
| 分类号 |
H01L21/301(2006.01);H01L21/67(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/301(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
一种包含膜之装置之制造方法，其系于包含第1面及第2面之基板之上述第2面侧形成膜；自上述基板之上述第1面侧以使上述膜残留之方式于上述基板局部形成槽；并自上述基板之上述第2面侧向上述膜喷射物质，去除形成上述槽之部位之上述第2面侧之上述膜。
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| 地址 |
日本 |
