发明名称 | 触媒层形成方法、触媒层形成系统及记忆媒体 | ||
摘要 | 板表面整个区域及凹部内面整个区域形成均匀的触媒层。 对基板形成触媒层的触媒层形成方法,系具备有:第1供给工程,将触媒溶液供给至基板(2)整个区域上,而形成基板表面触媒层(22);及第2供给工程,一边使基板(2)旋转,一边对基板(2)的部供给触媒溶液,而形成凹部内面触媒层(22)。 | ||
申请公布号 | TW201617480 | 申请公布日期 | 2016.05.16 |
申请号 | TW104122165 | 申请日期 | 2015.07.08 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 稲富裕一郎;田中崇 |
分类号 | C23C18/18(2006.01) | 主分类号 | C23C18/18(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | 一种触媒层形成方法,系对基板形成触媒层,该触媒层形成方法,其特征系,具备有:准备具有凹部之基板的工程;第1供给工程,将包含有触媒的触媒溶液,以遍及至前述基板表面整个区域的方式,供给至前述基板上,且使触媒均匀地吸附于前述基板表面整个区域,而形成基板表面触媒层;及第2供给工程,一边使前述基板旋转,一边对前述基板之中央部供给前述触媒溶液,使触媒吸附于前述凹部内面整个区域,而形成凹部内面触媒层。 | ||
地址 | 日本 |