发明名称 触媒层形成方法、触媒层形成系统及记忆媒体
摘要 板表面整个区域及凹部内面整个区域形成均匀的触媒层。 对基板形成触媒层的触媒层形成方法,系具备有:第1供给工程,将触媒溶液供给至基板(2)整个区域上,而形成基板表面触媒层(22);及第2供给工程,一边使基板(2)旋转,一边对基板(2)的部供给触媒溶液,而形成凹部内面触媒层(22)。
申请公布号 TW201617480 申请公布日期 2016.05.16
申请号 TW104122165 申请日期 2015.07.08
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 稲富裕一郎;田中崇
分类号 C23C18/18(2006.01) 主分类号 C23C18/18(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项 一种触媒层形成方法,系对基板形成触媒层,该触媒层形成方法,其特征系,具备有:准备具有凹部之基板的工程;第1供给工程,将包含有触媒的触媒溶液,以遍及至前述基板表面整个区域的方式,供给至前述基板上,且使触媒均匀地吸附于前述基板表面整个区域,而形成基板表面触媒层;及第2供给工程,一边使前述基板旋转,一边对前述基板之中央部供给前述触媒溶液,使触媒吸附于前述凹部内面整个区域,而形成凹部内面触媒层。
地址 日本
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