曝光装置

摘要

明的曝光装置包含：基板保持平台110，可保持基板W并往复运动及升降；曝光平台320，保持罩幕板310，使图案面M2与基板W的感光面M1面对面；罩幕除尘部120，与基板保持平台110一起行进，藉由紧压罩幕板310的图案面M2的方向的力(第一方向的力)而接触图案面M2的表面且一边旋转一边除尘而去；及基板除尘部210，藉由基板保持平台110的行进，藉由紧压基板W的感光面M1的方向的力(第二方向的力)接触基板W的感光面M1且一边旋转一边除尘而去。 依照本发明的曝光装置，可简化用以对基板的感光面及罩幕的表面进行除尘的机构全体，并且可使大量的基板高速曝光。 【代表图】

主权项

一种曝光装置，是使基板的感光面与罩幕板的图案面面对面并使该基板的感光面曝光，其特征在于包含： 基板保持平台，在保持该基板的状态下，可沿着x轴往复运动于由x轴及y轴形成的xy平面，且可沿着正交于xy平面的z轴升降； 曝光平台，在突出于该罩幕板的厚度方向的状态下保持该罩幕板； 以该基板保持平台沿着x轴朝向该罩幕板的侧当作前方侧，以与该前方侧相反侧当作后方侧，以紧压该罩幕板的图案面的方向当作第一方向，以紧压该基板的感光面的方向当作第二方向时，包含： 罩幕除尘部，安装于由该基板保持平台的前方侧的端部突出于前方侧的突出部，藉由与该基板保持平台一起往前方侧行进而在该第一方向的力作用的状态下对该罩幕板的图案面进行除尘而去； 基板除尘部，安装于基板除尘部支撑板，该基板除尘部支撑板配置于比该基板保持平台位于初始位置时的该基板保持平台还靠前方侧，且比该曝光平台还靠后方侧的规定位置，藉由该基板保持平台由该初始位置往前方侧行进而在该第二方向的力作用的状态下对该基板的感光面进行除尘而去； 基板保持平台驱动机构部，用以使该基板保持平台可沿着x轴往复运动并且可沿着z轴升降；以及 基板保持平台控制装置，藉由控制该基板保持平台驱动机构部而控制该基板保持平台的往复运动及升降。