| 摘要 |
高出力ＤＣ蒸気プラズマトーチシステム（Ｓ）はプラズマトーチアセンブリ（１）を含み、過熱蒸気（４６）がメインプラズマ生成ガスとして利用され、これによって非常に反応性の高い蒸気プラズマプルームが生成される。プラズマプルームに到達する前に、過熱蒸気（４６）が、蒸気の凝縮を低減するためにセラミック張り蒸気供給チューブ（２５）を介して、プラズマプルーム内に内部に直接注入される。過熱蒸気（４６）は、接線方向に穿たれた孔を有するガス渦（１６）を通って流れ、これによって電極侵食を最小化する高速ガススワールが生じる。蒸気プラズマトーチシステム（Ｓ）においては、プラズマトーチアセンブリ（１）は、このプラズマトーチアセンブリ（１）の外部に収容された点火接触器を用いて点火される。過熱蒸気（４６）は、水冷蒸気渦発生器アセンブリ（１５）を用いてプラズマプルーム内に注入される。 |
