| 摘要 |
본 개시는 일반적으로, 기판에 관하여 마스크들을 정렬시키기 위한 장치 및 방법들에 관한 것이다. 일 실시예에서, 정렬을 위해 활용되는 시각화(visualization) 시스템은 듀얼 광 소스를 포함한다. 듀얼 광 소스는, 기판 상의 정렬 마크들을 뷰잉하기 위한 제 1 광 소스, 및 마스크 상의 마스크 개구들 또는 다른 정렬 마크들을 뷰잉하기 위한 제 2 광 소스를 포함한다. 기판에 관한 마스크의 정렬을 용이하게 하기 위해, 제 1 및 제 2 광 소스들 사이의 토글링(toggling)이 발생할 수 있다. 시각화 시스템은 또한, 마스크를 이미징하면서, 시각화 시스템을 포커싱하기 위해, z-축으로 작동가능할 수 있고, 그에 의해, 마스크 개장(refurbishment), 또는 마스크 치수들에 영향을 미치는 다른 인자들로 인한, 본래의 또는 디폴트 위치로부터의 마스크 변위의 결정을 용이하게 할 수 있다. |
