发明名称 溶液处理装置
摘要 一种能够将被处理液分离成为浓缩液及馏出液 且充分地增大浓缩液中的高沸点有机溶剂之含量,同时充分地减少馏出液中的高沸点有机溶剂之含量之溶液处理装置。 提供一种溶液处理装置1a,其特征在于包括: 处理塔2,其系将被处理液L1分离成为浓缩液L2及馏出液L3的馏出蒸气L3且从塔顶部使馏出蒸气L3馏出,而且从塔底部使浓缩液L2塔底排出;第1加热手段6a,其系将被供给至前述处理塔2的塔底部之被处理液L1加热;第1气液接触手段3a,其系被设置在前述处理塔2的内部,同时使被处理液L1与因被第1加热手段6a加热而成为气体状的被处理蒸气L1接触;及供给手段4,其系从前述第1气液接触手段3a的上方将被处理液L1供给至前述处理塔2的内部。
申请公布号 TWI532523 申请公布日期 2016.05.11
申请号 TW103103114 申请日期 2014.01.28
申请人 日本瑞环股份有限公司 发明人 铃木崇夫;竹山友洁;小田昭昌
分类号 B01D3/14(2006.01);B01D3/26(2006.01) 主分类号 B01D3/14(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文
主权项 一种溶液处理装置,将含有高沸点有机溶剂的被处理液分离成为高沸点有机溶剂含量多的浓缩液及高沸点有机溶剂含量少的馏出液,其特征在于包括:处理塔,其系将被处理液分离成为浓缩液及馏出液的馏出蒸气且从塔顶部使馏出蒸气馏出,而且从塔底部使浓缩液塔底排出;第1加热手段,其系将被供给至前述处理塔的塔底部之被处理液加热;第1气液接触手段,其系被设置在前述处理塔的内部,同时使被处理液与被加热而成为气体状的被处理蒸气接触;及供给手段,其系从前述第1气液接触手段的上方将被处理液供给至前述处理塔的内部,且不包括使从前述第1气液接触手段上昇的被处理蒸气气液接触的气液接触手段;其中从前述供给手段所供给的被处理液之高沸点有机溶剂的含量为10.0wf%以下,且从前述供给手段所供给之被处理液的高沸点有机溶剂,系沸点比水更高、完全溶解于水且不与水共沸之溶剂,而且选自由N-甲基吡咯啶酮、N-乙基-2-吡咯啶酮、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、二甲基亚碸、乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、丙二醇、丁二醇、1,4-丁二醇、一乙醇胺、二乙二醇一甲基醚、1,3-二甲基-2-咪唑啶酮所组成群组之1种或2种以上的溶剂。
地址 日本