真空镀膜件及其制造方法

摘要

一种真空镀膜件，包括基体及形成于基体上的金属导电层，所述导电层为溅射在基体（11）上的铜层（14）银层（16）结合层，基体（11）与铜层（14）之间依次溅射打底层（12）和过度保护层（13），银层（16）与铜层（14）之间溅射过渡保护层（15）。本发明还提供一种上述真空镀膜件的制造方法。该真空镀膜件导电性能高，导电层与基体结合力好，镀层性能稳定。

主权项

一种真空镀膜件，包括基体及形成于基体上的金属导电层，其特征在于：所述导电层为真空溅射在基体上的铜‑银的结合层。