| 发明名称 | 用于形成溅射材料层的系统和方法 | ||
| 摘要 | 本公开描述了一种涂覆衬底(110)的方法，所述方法包括在衬底(110)上形成溅射材料层(806)的步骤。形成溅射材料层的步骤可以包括以下步骤：将来自至少一个可旋转靶材(120’)的材料溅射在衬底(110)上；以及改变至少一个可旋转靶材(120’)与衬底(110)之间的相对位置。此外，本公开描述了在溅射工艺期间改变靶材(120；120’；120”)与衬底之间的距离。本公开还描述了用于涂覆衬底的系统。 | ||
| 申请公布号 | CN102934197B | 申请公布日期 | 2016.05.04 |
| 申请号 | CN201180027703.8 | 申请日期 | 2011.07.22 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 马库斯·班德尔;马卡斯·哈尼卡;伊夫林·希尔;法毕奥·皮拉里斯;盖德·曼克;拉尔夫·林德伯格;安德里亚斯·鲁普;科拉德·施沃恩特兹;刘健 |
| 分类号 | H01J37/34(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 侯颖媖 |
| 主权项 | 一种涂覆衬底(110)的方法，所述方法包括以下步骤：在所述衬底(110)上形成溅射材料层(806)，其中形成所述溅射材料层的步骤包括以下步骤：将来自至少一个可旋转靶材(120’)的材料溅射在所述衬底(110)上；改变所述至少一个可旋转靶材(120’)与所述衬底(110)之间的相对位置到第一位置(I)，所述第一位置被维持预定的第一时间间隔；以及将所述至少一个可旋转靶材与所述衬底之间的所述相对位置改变到第二位置(II)，所述第二位置被维持预定的第二时间间隔，其中所述预定的第一时间间隔和所述预定的第二时间间隔中的至少一者是至少0.1秒。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||